[发明专利]一种具有负光电导效应的晶体管及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202111650011.0 申请日: 2021-12-30
公开(公告)号: CN114512550A 公开(公告)日: 2022-05-17
发明(设计)人: 孙佳;靳晨星;阳军亮;周博升 申请(专利权)人: 中南大学
主分类号: H01L31/0216 分类号: H01L31/0216;H01L31/0232;H01L31/113;H01L31/18
代理公司: 长沙朕扬知识产权代理事务所(普通合伙) 43213 代理人: 魏龙霞
地址: 410000 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明提供一种具有负光电导效应的晶体管及其制备方法,晶体管包括基底和设置于基底之上的半导体层;半导体层上连接有电极,半导体层的全部和电极的部分被一栅介质层包覆,电极一端埋置于栅介质层内,另一端伸出至栅介质层外;半导体层为金属氧化物半导体层;栅介质层为离子胶固化得到的高单位电容栅介质。晶体管具备在单一金属氧化物半导体层晶体管中呈现负光电导现象。本发明使用特定的掩膜,采用磁控溅射制备半导体层阵列;采用热蒸发法沉积电极层阵列;最后通过丝网印刷栅介质层阵列。简化了工艺流程、降低了生产要求和成本,有利于晶体管阵列产业化生产,制得的晶体管拥有较大的回滞窗口,电流开关比可达到104,回扫亚阈值摆幅SS小于60mV/decade。
搜索关键词: 一种 具有 电导 效应 晶体管 及其 制备 方法
【主权项】:
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