[发明专利]辐射源装置和辐射检查设备在审

专利信息
申请号: 202111661887.5 申请日: 2021-12-30
公开(公告)号: CN114155990A 公开(公告)日: 2022-03-08
发明(设计)人: 季峥;公令军;党永乐;侯利娜;刘磊;宋全伟;倪秀琳;马媛;喻卫丰;李营;宗春光 申请(专利权)人: 同方威视科技(北京)有限公司;同方威视技术股份有限公司
主分类号: G21K1/02 分类号: G21K1/02;G21K5/08
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 艾春慧
地址: 101500 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开提供了一种辐射源装置和辐射检查设备。辐射源装置包括:辐射本体,包括具有多个辐射部的辐射源和与辐射源连接且罩于辐射源外的屏蔽罩,屏蔽罩具有用于辐射源输出射束的射束出射部;安装座,被配置为承载辐射本体;和辐射源位置调节机构,连接于屏蔽罩和安装座之间,辐射源位置调节机构被配置为调节并锁定辐射本体与安装座的相对位置。辐射源装置和辐射检查设备包括该辐射源装置。本公开的辐射源装置和辐射检查设备利于降低辐射源的工作位置调节难度,提高调节效率,以及利于降低采用该辐射源装置的辐射检查装置的整体重量和成本。
搜索关键词: 辐射源 装置 辐射 检查 设备
【主权项】:
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