[发明专利]曝光系统、曝光系统的物镜像面调节方法及光刻机在审
| 申请号： | 202111681792.X | 申请日： | 2021-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN116414006A | 公开（公告）日： | 2023-07-11 |
| 发明（设计）人： | 江超群;侯宝路;湛宾洲;丁杨建;李运锋 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 钟晶 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种曝光系统，包括照明单元、掩模板、物镜、工件台和控制单元，所述照明单元用于提供曝光光束，所述掩模板位于所述物镜的物面上，所述工件台上的待曝光基板位于所述物镜的像面上，所述物镜中设有楔形板，所述控制单元用于控制所述楔形板进行Rz和Ry方向组合的旋转以调整所述物镜的像面，所述曝光光束沿z轴方向传播，其中，y轴方向与所述z轴相互垂直，Rz为以Z轴为旋转轴的倾斜，Ry为以Y轴为旋转轴的倾斜。通过对所述楔形板进行Rz和Ry方向组合的旋转调整所述物镜的像面，补偿了所述楔形板进行Rz方向旋转引入的非对称旋转。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 系统 物镜 调节 方法 光刻 | ||
【主权项】：
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