[实用新型]直写曝光机有效
申请号: | 202120011233.7 | 申请日: | 2021-01-05 |
公开(公告)号: | CN213934539U | 公开(公告)日: | 2021-08-10 |
发明(设计)人: | 蔡志国;江俊龙 | 申请(专利权)人: | 苏州微影激光技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00;H05K3/06 |
代理公司: | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 郭红岩 |
地址: | 215011 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种直写曝光机,直写曝光机包括多个打标装置、承载机台、设于承载机台上方的曝光装置和位置获取装置、以及遮光条,承载机台的上表面包括承载面以及位于承载面外且相邻的两个边缘,相邻两个边缘分别开设有第一凹槽和第二凹槽,遮光条包括嵌装于第一凹槽的第一段和嵌装于第二凹槽的第二段,遮光条开设有与多个打标装置一一对应的多个透光孔,其中部分透光孔设于第一段并沿第一方向间隔排布,其余透光孔设于第二段并沿垂直于第一方向的第二方向间隔排布,多个打标装置设于遮光条的下方,且每个打标装置的出光口至少部分暴露于其所对应的透光孔中,可以降低组装误差、机台热胀冷缩对打标标记的影响。 | ||
搜索关键词: | 曝光 | ||
【主权项】:
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