[实用新型]直写曝光机有效

专利信息
申请号: 202120011233.7 申请日: 2021-01-05
公开(公告)号: CN213934539U 公开(公告)日: 2021-08-10
发明(设计)人: 蔡志国;江俊龙 申请(专利权)人: 苏州微影激光技术有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00;H05K3/06
代理公司: 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 代理人: 郭红岩
地址: 215011 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型提供了一种直写曝光机,直写曝光机包括多个打标装置、承载机台、设于承载机台上方的曝光装置和位置获取装置、以及遮光条,承载机台的上表面包括承载面以及位于承载面外且相邻的两个边缘,相邻两个边缘分别开设有第一凹槽和第二凹槽,遮光条包括嵌装于第一凹槽的第一段和嵌装于第二凹槽的第二段,遮光条开设有与多个打标装置一一对应的多个透光孔,其中部分透光孔设于第一段并沿第一方向间隔排布,其余透光孔设于第二段并沿垂直于第一方向的第二方向间隔排布,多个打标装置设于遮光条的下方,且每个打标装置的出光口至少部分暴露于其所对应的透光孔中,可以降低组装误差、机台热胀冷缩对打标标记的影响。
搜索关键词: 曝光
【主权项】:
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