[实用新型]一种离子束镀膜装置有效

专利信息
申请号: 202120018453.2 申请日: 2021-01-06
公开(公告)号: CN214496464U 公开(公告)日: 2021-10-26
发明(设计)人: 闫志强 申请(专利权)人: 张家口柔电表面技术有限责任公司
主分类号: C23C14/46 分类号: C23C14/46;C23C14/50;C23C14/54
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 李兴林
地址: 075300 河北省张家*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 实用新型公开了一种离子束镀膜装置,包括真空镀膜室,所述真空镀膜室中设置有主离子源、靶材、辅助离子源和水平的转台;第一电机能够驱动转台自转;所述转台的顶面对称设置有两个夹持机构,每个所述夹持机构均包括与所述转台连接的支架、与所述支架的顶部转动连接的竖直的转盘和转动设置在所述转盘上的夹爪,两个所述转盘上的所述夹爪一一对应,通过对应的两个所述夹爪夹持工件,所述支架上设置有能够驱动所述转盘自转的第二电机,一个所述转盘内设置有能够驱动所述夹爪自转的第三电机。本实用新型的离子束镀膜装置能够实现一次装夹即对工件全身镀膜,提高了镀膜效率且镀膜的均匀性好。
搜索关键词: 一种 离子束 镀膜 装置
【主权项】:
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