[实用新型]一种真空镀膜设备有效

专利信息
申请号: 202120018467.4 申请日: 2021-01-06
公开(公告)号: CN214496470U 公开(公告)日: 2021-10-26
发明(设计)人: 闫志强 申请(专利权)人: 张家口柔电表面技术有限责任公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/50;C23C14/54;C23C14/35
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 李兴林
地址: 075300 河北省张家*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 实用新型公开一种真空镀膜设备,涉及真空镀膜相关技术领域;包括镀膜箱和操作屏,镀膜箱前端下部设置有进出门,镀膜箱内部装配有磁控靶、放置台和供电器,磁控靶底部设置有对准头;放置台包括安装座、镀膜限位箱和镀膜板;镀膜箱一侧设置有放气阀,另一侧连接有第一连接管,第一连接管下部的右端连接有第二连接管,第一连接管的下端固定连接有扩散泵,且扩散泵的下端内部设置有加热丝,并且加热丝的下端通过电性连接有加热器,加热丝的右侧贯穿连接有第三连接管,且第三连接管和第二连接管的右侧均连接有第四连接管,第四连接管的右端固定连接有机械泵。本实用新型提供的真空镀膜设备,使产品可以快速固定,且拆卸方便。
搜索关键词: 一种 真空镀膜 设备
【主权项】:
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