[实用新型]一种两侧高差较大的深基坑支护结构有效

专利信息
申请号: 202120026049.X 申请日: 2021-01-06
公开(公告)号: CN215290139U 公开(公告)日: 2021-12-24
发明(设计)人: 刘治军;何志勇;程磊;赖安锋;朱洪明;莫颜保;李志波 申请(专利权)人: 深圳市工勘岩土集团有限公司
主分类号: E02D17/04 分类号: E02D17/04
代理公司: 深圳市壹品专利代理事务所(普通合伙) 44356 代理人: 周婷;江文鑫
地址: 518054 广东省深圳市南山区粤海*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及建筑工程的技术领域,公开了一种两侧高差较大的深基坑支护结构,包括灌注桩、立柱桩、第一道支撑梁和第一道钢管斜撑;所述灌注桩设于深基坑的周围,所述立柱桩布置于深基坑的内部,在所述立柱桩的顶部设有所述第一道支撑梁,所述第一道支撑梁呈水平布置,所述立柱桩与所述第一道支撑梁的连接处设有连接部,在深基坑较高侧的所述灌注桩上设有第一斜撑腰梁,所述第一斜撑腰梁的位置高于所述连接部的位置;所述第一道钢管斜撑的一端与所述第一斜撑腰梁连接,另一端与所述连接部连接。这种新型不对称的支护体系采用斜撑与内支撑梁形成整体受力体系,显著提高地势较高侧围护结构的抗剪、抗弯能力,还节约了工程造价。
搜索关键词: 一种 两侧 高差 较大 基坑 支护 结构
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