[实用新型]一种约束离子体的限制环装置有效
| 申请号： | 202120032652.9 | 申请日： | 2021-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN213816055U | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 刘海洋;刘小波;胡冬冬;李娜;程实然;郭颂;许开东 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 徐尔东 |
| 地址： | 221300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种约束离子体的限制环装置，其套设在偏置电极上，用于限制法拉第清洗时产生的等离子体；限制环本体包括上限制环和下限制环，在上限制环和下限制环之间形成用于二次湮灭等离子体的缓冲空间；在上限制环上开设若干上限制环抽气通道，在下限制环上开设若干下限制环抽气通道，上限制环抽气通道、下限制环抽气通道均垂直地面开设，且相邻上限制环抽气通道与下限制环抽气通道在垂直方向上未同轴；本实用新型可以在法拉第清洗时限制高强度等离子体，同时保证了足够的抽气通道，满足正常刻蚀和低压刻蚀的腔压要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 约束 离子 限制 装置 | ||
【主权项】：
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