[实用新型]一种光纤光栅刻写光路有效
| 申请号： | 202120165699.2 | 申请日： | 2021-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN214623105U | 公开（公告）日： | 2021-11-05 |
| 发明（设计）人： | 杨益;戴立伟;李跃霖;骆崛逵 | 申请（专利权）人： | 武汉锐科光纤激光技术股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/02 | 分类号： | G02B6/02 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 吕伟盼 |
| 地址： | 430000 湖北省*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种光纤光栅刻写光路，包括：沿光路依次安装的紫外光激光器、扩束镜组件、光阑、柱面镜组件和相位掩模板；紫外光激光器用于发射紫外激光，扩束镜组件用于将紫外激光进行扩束，光阑用于将紫外扩束后的光斑进行截取，柱面镜组件用于将调整焦距；相位掩模板用于在光纤纤芯上进行光纤光栅的刻写。本实用新型提供的光纤光栅刻写光路，通过在整个光路上依次安装紫外光激光器、扩束镜组件、光阑、柱面镜组件和相位掩模板，使用扩束镜组件对高频深紫外激光进行扩束，并通过柱面镜组件调整焦距，从而轻松实现对高频紫外激光的扩束倍数调节，解决了紫外激光器输出光斑不稳定，镜片在高频紫外激光辐照下极易损耗从而影响光纤光栅刻写的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光纤 光栅 刻写 | ||
【主权项】：
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