[实用新型]曝光机台有效
| 申请号： | 202120208455.8 | 申请日： | 2021-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN214474413U | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 张鸿明 | 申请（专利权）人： | 川宝科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 王博 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供一种曝光机台，包含一工作腔室、一第一底片框架与一第二底片框架。第一底片框架适于在工作腔室之外的一第一位置与在工作腔室之内的一第二位置之间移动。第二底片框架适于在工作腔室之外的一第三位置与在工作腔室之内的第四位置之间移动。当第一底片框架位于第二位置时，第二底片框架位于第三位置，并且当第二底片框架位于第四位置时，第一底片框架位于第一位置。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 机台 | ||
【主权项】：
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