[实用新型]一种用于静电保护的可控硅结构有效

专利信息
申请号: 202120236475.6 申请日: 2021-01-27
公开(公告)号: CN214012941U 公开(公告)日: 2021-08-20
发明(设计)人: 凌盛;张泽飞 申请(专利权)人: 上海类比半导体技术有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 上海一平知识产权代理有限公司 31266 代理人: 吴珊;成春荣
地址: 200135 上海市浦东新区*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 本申请公开了一种用于静电保护的可控硅结构,包括:半导体衬底;位于半导体衬底中相邻的第一N型阱区和第一P型阱区;位于第一N型阱区中的N型轻掺杂区,N型轻掺杂区中形成有靠近半导体衬底表面的第一N型重掺杂区,第一N型轻掺杂区周围依次形成有第一P型重掺杂区和第二N型重掺杂区;位于第一P型阱区中的P型轻掺杂区,P型轻掺杂区中分别形成有靠近半导体衬底表面的第三N型重掺杂区、第二P型重掺杂区和第四N型重掺杂区;覆盖部分的第一N型阱区和第一P型阱区的多晶硅层,多晶硅层暴露各个重掺杂区;第一N型重掺杂区和第一P型重掺杂区连接阳极,第三N型重掺杂区、第二P型重掺杂区和第四N型重掺杂区连接阴极,提高ESD泻放能力。
搜索关键词: 一种 用于 静电 保护 可控硅 结构
【主权项】:
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