[实用新型]一种气相薄膜沉积装置有效
| 申请号： | 202120266732.0 | 申请日： | 2021-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN214529236U | 公开（公告）日： | 2021-10-29 |
| 发明（设计）人： | 董洪旺;罗兴安;张高升;楚明;涂文骏 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C23C16/455;C23C14/50 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 刘鹤;张颖玲 |
| 地址： | 430074 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型实施例公开了一种气相薄膜沉积装置，包括：腔室，位于所述腔室内的承载部件和气体保持部件；所述承载部件上具有用于放置待处理晶片的晶片放置区域；所述气体保持部件环绕所述晶片放置区域设置，以阻隔气流在所述待处理晶片上方的流动；所述气体保持部件的内壁与所述晶片放置区域的外边界之间存在间隔，所述间隔的宽度大于或等于1.3毫米。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 沉积 装置 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
