[实用新型]一种精确测量镁电解槽中镁的厚度和液位的装置有效
| 申请号： | 202120291734.5 | 申请日： | 2021-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN214583140U | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 郭在伟;韩钰;祝袁园;孙存山;李进;卢伟伟;宁德厚;杨伟光;刘啟建 | 申请（专利权）人： | 云南国钛金属股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B21/08 | 分类号： | G01B21/08;G01F23/00 |
| 代理公司： | 成都智言知识产权代理有限公司 51282 | 代理人： | 濮云杉 |
| 地址： | 651200 云南省*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种精确测量镁电解槽中镁的厚度和液位的装置，属于镁电解技术领域。解决了现有技术中无法方便、快捷的测出镁电解槽中镁层的厚度和液位的问题。本实用新型包括设置在电解槽壳体(8)上的第一测量筒(2)和第二测量筒(5)，所述第一测量筒(2)和第二测量筒(5)上均设置有测距装置(1)，所述第一测量筒(2)的下端位于镁层(9)的上方，所述第二测量筒(5)的下端位于镁层(9)下方的氯化镁(10)中。本实用新型通过测距装置可以直接测量出镁层的液位，通过电解质(氯化镁)密度和镁密度的差异，比对两个测距装置测量值的差异即可计算出镁层的厚度，方便快捷，测量精度高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 精确 测量 电解槽 厚度 装置 | ||
【主权项】：
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