[实用新型]一种具有旋转功能的基片清洗设备

摘要

本实用新型公开了一种具有旋转功能的基片清洗设备，框架的内部装配有排液排气单元，框架内腔中部固定装配有旋转真空台盘，框架内部左侧装配有清洗单元，排液排气单元上部底面装配有风洗单元；超声波发生器产生高能声波，通过超声振板传递到清洗液中，清洗液分子在这种声波的推动下作加速运动，连续冲击基片表面，使基片表面吸附的颗粒等污染物离开基进入溶液中；方案利用清洗单元清洗完成后，可以通过风洗单元对基片进行吹干，防止二次污染；方案采用旋转真空台盘吸附固定基片，旋转真空台盘能够倾斜某个角度，相比基片保持水平放置清洗，基片倾斜，基片表面的颗粒物更容易从基片上随清洗液流走。