[实用新型]一种四轴立式加工用通用型自定位抛光装置有效

专利信息
申请号: 202120344159.0 申请日: 2021-02-05
公开(公告)号: CN215700677U 公开(公告)日: 2022-02-01
发明(设计)人: 伍益 申请(专利权)人: 成都金雨跃机械有限公司
主分类号: B24B29/00 分类号: B24B29/00;B24B27/00;B24B41/06;B24B55/06;B24B41/02
代理公司: 成都华复知识产权代理有限公司 51298 代理人: 蒋文芳
地址: 610000 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型公开了一种四轴立式加工用通用型自定位抛光装置,涉及工件抛光技术领域。该四轴立式加工用通用型自定位抛光装置,包括底板,所述底板的顶部固定安装有L形板和立轴,立轴的数量为四组,立轴的外壁滑动安装有移动板,L形板的底部固定安装有液压杆,液压杆的自由端与移动板的顶部固定连接。该四轴立式加工用通用型自定位抛光装置,能够在移动板进行向下时自动将工件进行定位压制,有效的提高了工件的稳定性,减少进行抛光工件时出现偏移的问题,进而避免了工件出现偏移导致抛光不均匀的情况,且能够根据工件的形状和大小将压板的高度进行调整,有效的提高了该装置的容错率和通用性,显著的提高了该装置的实用性。
搜索关键词: 一种 立式 工用 通用型 定位 抛光 装置
【主权项】:
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