[实用新型]一种基于SIC的高压MOS器件有效
申请号: | 202120378296.6 | 申请日: | 2021-02-18 |
公开(公告)号: | CN214176043U | 公开(公告)日: | 2021-09-10 |
发明(设计)人: | 陈利 | 申请(专利权)人: | 厦门芯一代集成电路有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/10;H01L29/06;H01L29/16 |
代理公司: | 厦门荔信航知专利代理事务所(特殊普通合伙) 35247 | 代理人: | 苏娟 |
地址: | 361000 福建省厦门市中国(福建)*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种基于SIC的高压MOS器件,其包括:漏极形成在N型重掺杂衬底下表面,N型重掺杂衬底上设有N型轻掺杂缓冲区,N型轻掺杂缓冲区上设有两个不相邻的P型阱区,P型阱区上都设有P型重掺杂源区和N型重掺杂源区,P型重掺杂源区和N型重掺杂源区为横向相连接,N型重掺杂源区的侧边与P型阱区的边缘处设有一定距离,在N型轻掺杂缓冲区和P型阱区的上表面设有所述高K绝缘层,在高K绝缘层的上表面设有栅极多晶硅区,在栅极多晶硅区的上表面设有栅极电极,在P型重掺杂源区和N型重掺杂源区的上表面设有源极电极。该高压碳化硅MOS器件可以有效地实现功率器件的运行快和损耗低的性能,还可以在高频条件下提高开关速度。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 sic 高压 mos 器件 | ||
【主权项】:
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