[实用新型]一种接近式曝光机有效
| 申请号： | 202120413325.8 | 申请日： | 2021-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN214225676U | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | 韦钦超 | 申请（专利权）人： | 韦钦超 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京沃知思真知识产权代理有限公司 11942 | 代理人： | 周俊华 |
| 地址： | 274300 山东省单*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及曝光机技术领域，且公开了一种接近式曝光机，包括曝光机本体，其特征在于：所述曝光机本体的顶部固定安装有光源装置，所述曝光机本体的内部分别固定安装有底座板与固定箱，所述曝光机本体的顶部活动安装有移动台，所述固定箱的每部分别固定安装有第一隔板、电机与第二隔板，所述第一隔板与固定箱的内壁之间活动安装有第一转动螺杆，所述第一转动螺杆的外侧螺纹连接有转动板，所述转动板的顶部固定安装有伸缩柱，本实用新型通过电机的转动，电机转动时会带动第一转动螺杆进行转动，第一转动螺杆转动时会带动转动板进行上下移动，而转动板顶部的伸缩柱也将会带动转动块上下移动高度，从而达到适应不同高度的转运台效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 接近 曝光 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于韦钦超，未经韦钦超许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202120413325.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
