[实用新型]一种接近式曝光机有效
| 申请号： | 202120418042.2 | 申请日： | 2021-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN214202050U | 公开（公告）日： | 2021-09-14 |
| 发明（设计）人： | 韦钦超 | 申请（专利权）人： | 韦钦超 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京沃知思真知识产权代理有限公司 11942 | 代理人： | 周俊华 |
| 地址： | 274300 山东省单*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及曝光机技术领域，且公开了一种接近式曝光机，包括曝光机本体，所述曝光机本体的顶部固定安装有光源装置，所述曝光机本体的内部包含有底座、固定板与顶板，所述固定板的左侧端分别固定安装有第一安装板与隔板，所述第一安装板与底座之间固定安装有第一电机，相邻两个所述第一安装板之间活动安装有转动杆，本实用新型当曝光机中显示屏需要通过第一通孔，第一电机将会带动转动杆进行转动，转动杆转动时会带动第一移动块与第二移动块分别进行转动，第一移动块与第二移动块的移动方向相反，当第一移动块与第二移动块之间的距离变远时，曝光机显示屏就可以通过第一通孔。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 接近 曝光 | ||
【主权项】：
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