[实用新型]真空镀膜设备有效
| 申请号： | 202120503647.1 | 申请日： | 2021-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN214572209U | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 刘晗 | 申请（专利权）人： | 宁波元吉真空科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/50 |
| 代理公司： | 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 | 代理人： | 石来杰 |
| 地址： | 315400 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开真空镀膜设备，包括机架、镀膜室、用于放置待镀膜工件的工件转架，以及用于对镀膜室进行真空处理的真空系统，镀膜室安装在机架上，镀膜室内设有真空镀膜腔，真空系统与真空镀膜腔连接，工件转架转动安装在真空镀膜腔内，镀膜室的侧壁上安装有第一电弧靶源机构，真空镀膜腔内安装有第二电弧靶源机构，第一电弧靶源机构设置于工件转架的外侧，第二电弧靶源机构设置于工件转架的内部。通过在镀膜室的不同位置安装第一电弧靶源机构和第二电弧靶源机构，实现对悬挂转架或滚筒式转架上应用的不同工件镀膜的需要；可以对大小、形状不同的基材进行镀膜，例圆环形、颗粒形状的基材等等，一机多用，适用性广，成本较低。 | ||
| 搜索关键词： | 真空镀膜 设备 | ||
【主权项】：
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