[实用新型]掩膜版、光刻设备及显示面板

摘要

本实用新型涉及显示面板制造设备技术领域，提供一种掩膜版、光刻设备及显示面板，上述掩膜版包括刻蚀区和衍射区，衍射区设于刻蚀区与保留区之间，并且衍射区环绕刻蚀区设置；采用上述掩膜版对显示面板的阵列基板进行刻蚀，通过环绕刻蚀区设置衍射区，曝光光束照射至掩膜版的衍射区并形成衍射现象，使照射到阵列基板的导电过孔的孔壁的曝光光束的通光量自刻蚀区朝保留区方向逐渐变化，使阵列基板的导电过孔的孔壁被缓慢刻蚀，从而有效减小阵列基板的导电过孔的孔壁坡度，有效避免阵列基板的导电过孔的孔壁和孔底部之间的连接处产生尖角而造成导电膜层断路，有效保证显示面板的显示效果。