[实用新型]一种硅片清洗设备有效

专利信息
申请号: 202120540401.1 申请日: 2021-03-16
公开(公告)号: CN214683145U 公开(公告)日: 2021-11-12
发明(设计)人: 郏金鹏;张苏 申请(专利权)人: 江苏芯格诺电子科技有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B3/10;B08B13/00
代理公司: 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 代理人: 施得运
地址: 213000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种硅片清洗设备,包括清洗箱,所述清洗箱内部设有承托网,所述承托网上放置有硅片本体,所述承托网上下两侧分布设有喷淋管,所述清洗箱外部一侧设有清洗液桶和新鲜水桶,所述清洗液桶右侧下端通过清洗液管连接喷淋泵入口,所述喷淋泵出口连接设有加热装置,所述加热装置内部设有蛇形盘绕的加热管,所述加热管外部绕设有电热丝,所述加热装置出口连接两侧喷淋管;所述清洗箱上侧一端设有抽风机,所述抽风机通过风管连接冷却管,所述冷却管外部设有冷却套管。优点在于:通过加热装置对清洗液有效的加热有利于清洗掉硅片表面的光刻胶,设有冷却管路有利于回收高温蒸发的清洗液,通过设置的新鲜水桶有利于对硅片本体进行水洗。
搜索关键词: 一种 硅片 清洗 设备
【主权项】:
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