[实用新型]一种高强度耐磨损的二氧化硅抛光液存储设备有效
| 申请号： | 202120555235.2 | 申请日： | 2021-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN215099003U | 公开（公告）日： | 2021-12-10 |
| 发明（设计）人： | 张利;陈作瑞;白雪玉 | 申请（专利权）人： | 天津赛力成科技有限公司 |
| 主分类号： | B65D25/02 | 分类号： | B65D25/02;B65D25/34;B65D25/24 |
| 代理公司： | 天津市尚仪知识产权代理事务所(普通合伙) 12217 | 代理人： | 邓琳 |
| 地址： | 300480 天津市滨海新区*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种高强度耐磨损的二氧化硅抛光液存储设备，包括基座、存储设备的主体、用于对主体进行固定的固定结构、用于加强主体内部强度的加固结构以及用于对基座进行搬运的行走结构，所述基座为矩形，且所述基座的上端表面开设有安装槽，所述主体安装于安装槽的内部，且所述主体的顶部和一侧底部分别开设有进料口和出料口，所述固定结构安装于基座的上端表面且位于安装槽的四周，所述加固结构安装于主体的四周外壳的内部，所述行走结构设置有两组，且两组所述行走结构分别安装与主体的两侧边缘处。本实用新型结构简单，使用方便，具有较强的刚度和耐腐蚀性能，对抛光液具有较好的保护作用，且便于对存储设备进行搬运。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 强度 耐磨 二氧化硅 抛光 存储 设备 | ||
【主权项】：
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