[实用新型]低电容IGBT器件有效
申请号: | 202120578205.3 | 申请日: | 2021-03-22 |
公开(公告)号: | CN214588866U | 公开(公告)日: | 2021-11-02 |
发明(设计)人: | 朱辉;潘恒 | 申请(专利权)人: | 安徽瑞迪微电子有限公司 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L29/06 |
代理公司: | 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 | 代理人: | 朱顺利 |
地址: | 241002 安徽省芜湖市弋江区*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种低电容IGBT器件,包括N型漂移区、两条沟槽栅、设置于两条沟槽栅之间的有源区、设置于N型漂移区上表面的浮空P区以及设置于所述沟槽栅和所述浮空P区之间的辅助槽。本实用新型的低电容IGBT器件,辅助槽的引入极大的降低了器件的弥勒电容,能够给器件带来较优的性能提升,并且不会降低任何参数指标。 | ||
搜索关键词: | 电容 igbt 器件 | ||
【主权项】:
暂无信息
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