[实用新型]一种溶铜槽及不溶性阳极体系中三价铁离子含量控制系统有效

专利信息
申请号: 202120672900.6 申请日: 2021-04-01
公开(公告)号: CN214694422U 公开(公告)日: 2021-11-12
发明(设计)人: 吴寿军;孙志刚;尹华彪;贺清胜;卢根平;卢重阳 申请(专利权)人: 江西旭昇电子有限公司
主分类号: C25D17/00 分类号: C25D17/00;C25D7/00;C25D3/38;C25D21/18;C25D21/12;C25D21/06
代理公司: 长沙瀚顿知识产权代理事务所(普通合伙) 43223 代理人: 吴亮;朱敏
地址: 331600 江西省吉安市吉水县吉*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 实用新型提供了一种溶铜槽,包括具有容纳空间的槽体、设于所述容纳空间内的支撑座、支撑于所述支撑座并沿所述槽体深度方向设置且内部填充有铜粒的若干组溶铜管、设于所述槽体底部进液管、设于所述槽体顶部的溢流管,所述溶铜管的进液端与所述进液管连通,所述溶铜管出液端输出的液体进入所述容纳空间内。本实用新型提供的溶铜槽,在溶铜管内三价铁离子与铜粒反应而生成二价铁,从而调整了电镀液中三价铁离子的含量,使铜离子和铁离子浓度保持均衡,进而保证了电镀能力和产品品质。基于所述溶铜槽,本实用新型还提供一种不溶性阳极体系中三价铁离子含量控制系统。
搜索关键词: 一种 溶铜槽 不溶性 阳极 体系 中三价铁 离子 含量 控制系统
【主权项】:
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