[实用新型]一种硅基III-V族轴向异质结垂直纳米线阵列APD器件有效

专利信息
申请号: 202120787700.5 申请日: 2021-04-16
公开(公告)号: CN214625069U 公开(公告)日: 2021-11-05
发明(设计)人: 刘林生;解文豪;陈春明;刘兴鹏;黄祥恩;宋树祥;董鹏堂;苗腾;李锡铭 申请(专利权)人: 广西师范大学
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107;H01L31/0352;H01L31/18;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 桂林文必达专利代理事务所(特殊普通合伙) 45134 代理人: 白洪
地址: 541004 广西壮*** 国省代码: 广西;45
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摘要: 实用新型公开了一种能够提高Si和InGaAs的异质结界面质量,并且具有低暗电流,低噪声,高性能的硅基III‑V族轴向异质结垂直纳米线阵列APD器件。该硅基III‑V族轴向异质结垂直纳米线阵列器件包括衬底;所述衬底上设置有绝缘介质层;所述绝缘介质层内设置有垂直纳米线阵列;采用该硅基III‑V轴向异质结垂直纳米线阵列器件以硅作衬底,工艺与现有集成电路工业兼容,具有产业化的前景。
搜索关键词: 一种 iii 轴向 异质结 垂直 纳米 阵列 apd 器件
【主权项】:
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