[实用新型]防硅片中心下陷的镀膜载板和镀膜设备有效

专利信息
申请号: 202120853569.8 申请日: 2021-04-23
公开(公告)号: CN214612751U 公开(公告)日: 2021-11-05
发明(设计)人: 陈刚;林海;杨新强 申请(专利权)人: 浙江爱旭太阳能科技有限公司;广东爱旭科技有限公司;天津爱旭太阳能科技有限公司
主分类号: C23C16/458 分类号: C23C16/458;C23C16/50
代理公司: 深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333 代理人: 贾振勇
地址: 322000 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 本申请适用于太阳能电池技术领域,提供了一种防硅片中心下陷的镀膜载板和镀膜设备。镀膜载板包括:底壁;自底壁向外延伸的多个侧壁,多个侧壁和底壁围成凹槽;设于凹槽的承托件,承托件用于承托待镀膜的硅片的边缘区域,以在硅片与底壁之间形成空腔;设于空腔的支撑件,支撑件用于支撑硅片的中心区域。如此,通过设于空腔的支撑件支撑硅片的中心区域,防止了硅片被承托件抬高后由于自身重力而中心下陷,使得硅片受热更均匀、镀膜更均匀,有利于防止硅片损伤和提高镀膜效果。
搜索关键词: 硅片 中心 下陷 镀膜 设备
【主权项】:
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