[实用新型]一种基材离子轰击装置有效
| 申请号： | 202120954268.4 | 申请日： | 2021-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN214624968U | 公开（公告）日： | 2021-11-05 |
| 发明（设计）人： | 游耀华;游瑾富 | 申请（专利权）人： | 深圳中为思创科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C8/36 |
| 代理公司： | 深圳众邦专利代理有限公司 44545 | 代理人： | 郭晓宇 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道石龙*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种基材离子轰击装置，包括一结构主体，所述结构主体包括反应炉、高压电闸及真空泵，所述高压电闸及真空泵均设于所述反应炉的侧面，所述反应炉的前端面设有控制面板；所述反应炉内部设有反应室，所述反应室设有贯穿所述反应炉侧壁的第一进料口及第二进料口，所述真空泵与所述反应室接通；将离子轰击工艺所需的各个装置集成到同一台装置中，能够减小离子轰击工艺所需的物料及时间以应用于较小的工件；同时能够保证离子轰击工艺所需的各个步骤，确保工艺的顺利完成。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基材 离子 轰击 装置 | ||
【主权项】：
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