[实用新型]一种线性蒸发源有效
申请号: | 202121094817.1 | 申请日: | 2021-05-21 |
公开(公告)号: | CN215628252U | 公开(公告)日: | 2022-01-25 |
发明(设计)人: | 李成林;郝明;杜雪峰 | 申请(专利权)人: | 泊肃叶科技(沈阳)有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/54 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 110142 辽宁省沈阳市*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种线性蒸发源,主要包括二级坩埚、送丝机构和一级坩埚;二级坩埚为长条槽状体,二级坩埚的长度方向与镀膜幅宽方向一致;沿镀膜幅宽方向并排布置有2个以上的送丝机构,每个送丝机构的下方均设置有1个一级坩埚;二级坩埚位于一级坩埚的下方;一级坩埚的底部设置有熔液流管,熔液流管的另一端与二级坩埚侧壁相通,在熔液流管上设置有流量控制阀;二级坩埚上设置有2组以上的电极,二级坩埚上不同段的加热可进行分段控制。一级坩埚将送丝机构输送来的丝材熔化成熔液,并通过熔液流管将熔液注入二级坩埚;熔液在二级坩埚中加热蒸发实现蒸发镀膜。 | ||
搜索关键词: | 一种 线性 蒸发 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于泊肃叶科技(沈阳)有限公司,未经泊肃叶科技(沈阳)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202121094817.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类