[实用新型]石英晶片表面镀银设备有效
申请号: | 202121343988.3 | 申请日: | 2021-06-17 |
公开(公告)号: | CN215517593U | 公开(公告)日: | 2022-01-14 |
发明(设计)人: | 张艳强;张焕响 | 申请(专利权)人: | 沧州晶源远贸晶体材料有限公司 |
主分类号: | C23C2/04 | 分类号: | C23C2/04 |
代理公司: | 沧州市国瑞专利代理事务所(普通合伙) 13138 | 代理人: | 李瑶 |
地址: | 062450 河北*** | 国省代码: | 河北;13 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及镀银设备的技术领域,特别是涉及一种石英晶片表面镀银设备;其可对石英晶片进行浸润镀银,提高镀银效果,提高石英晶片镀银效率;包括工作台、银液池、两组转辊、传送带、伺服电机、安装柱、机械滑台、第一气压杆、L型安装架和夹持机构,银液池固定安装于工作台上,两组转辊分别可转动设置于工作台的顶端左部和右部,传送带的两端分别套设于两组转辊上,伺服电机固定安装于工作台顶端右前部,伺服电机的输出端与其中一组转辊传动连接,安装柱固定安装于工作台的顶端后部,夹持机构包括第二气压杆、两组转轴、齿板、两组夹持爪和齿轮,银液池位于夹持机构下方。 | ||
搜索关键词: | 石英 晶片 表面 镀银 设备 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C2-00 用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺;其所用的设备
C23C2-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域上镀覆
C23C2-04 .以覆层材料为特征的
C23C2-14 .过量熔融覆层的除去;覆层厚度的控制或调节
C23C2-26 .后处理
C23C2-30 .熔剂或融态槽液上的覆盖物
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C2-00 用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺;其所用的设备
C23C2-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域上镀覆
C23C2-04 .以覆层材料为特征的
C23C2-14 .过量熔融覆层的除去;覆层厚度的控制或调节
C23C2-26 .后处理
C23C2-30 .熔剂或融态槽液上的覆盖物