[实用新型]一种单介质层立体金属墙去耦结构有效
| 申请号： | 202121346238.1 | 申请日： | 2021-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN215497087U | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | 王宜颖;张胜妃;王波;覃永辉;姜彦南;曹卫平 | 申请（专利权）人： | 桂林电子科技大学 |
| 主分类号： | H01Q1/52 | 分类号： | H01Q1/52;H01Q1/00;H01Q3/00 |
| 代理公司： | 桂林文必达专利代理事务所(特殊普通合伙) 45134 | 代理人： | 张学平 |
| 地址： | 541004 广西*** | 国省代码： | 广西;45 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种单介质层立体金属墙去耦结构，包括金属墙、底板和两个辐射模块，所述金属墙贯穿所述底板并与所述底板固定连接，且位于所述公共接地板的顶部，两个所述辐射模块分别与所述底板固定连接，并均位于所述底板的顶部，且两个所述辐射模块关于所述金属墙对称设置，在满足去耦和匹配要求的前提下，不仅使天线阻抗匹配变好，而且还实现了较好的去耦效果，修正了H面的辐射方向图，提高了E面的实际增益，从而较好地解决了现有技术中方向图偏移的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 介质 立体 金属 墙去耦 结构 | ||
【主权项】：
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