[实用新型]泵环及薄膜沉积设备

摘要

本实用新型公开了一种泵环及薄膜沉积设备，泵环用于反应腔室，所述泵环上沿所述泵环的周向开设有多个均气孔，所述均气孔用于将所述反应腔室与外部泵口连通，对于所述泵环的开设有所述均气孔的不同部位，所述泵环越靠近所述泵口的部位所对应的在泵环径向上的壁厚越大。本申请通过调整泵环上均气孔的排布间距以及泵环径向上的壁厚，降低靠近泵口210的均气孔的抽气速率，以调整晶圆上沉积薄膜的速率均匀性，从而能较好的实现晶圆薄膜厚度均匀度的控制。本申请通过改变泵环于泵口处径向上的壁厚可以大大增加抽气速率可调节的范围。