[实用新型]光学系统及3D打印设备有效
| 申请号： | 202121506055.1 | 申请日： | 2021-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN215151890U | 公开（公告）日： | 2021-12-14 |
| 发明（设计）人： | 荣左超 | 申请（专利权）人： | 上海联泰科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B29C64/277 | 分类号： | B29C64/277;B33Y30/00 |
| 代理公司： | 上海巅石知识产权代理事务所(普通合伙) 31309 | 代理人： | 陈逸婷;王再朝 |
| 地址： | 201612 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本申请公开一种光学系统及3D打印设备，3D打印设备包括至少两个成型工位，光学系统包括能量辐射装置、振镜机构、以及至少两个反射镜。振镜机构包括至少一振镜，位于能量辐射装置的投影方向上，用以接收能量辐射装置投影出的画面，并在至少一振镜的摆动过程中将画面反射至不同光路中。至少两个反射镜分别位于振镜机构反射出的不同光路中，用以接收振镜机构反射的画面并反射至对应的成型工位。至少两个成型工位的设置位置不在能量辐射装置的投影方向上，投影画面通过振镜机构和至少两个反射镜被反射至至少两个成型工位上，从而利用振镜和反射镜将能量辐射装置的投影面反射至不同成型工位上，可将能量辐射装置分时复用以提高打印幅面面积。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 打印 设备 | ||
【主权项】：
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