[实用新型]双腔室流体处理系统有效
| 申请号： | 202121527969.6 | 申请日： | 2021-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN216377562U | 公开（公告）日： | 2022-04-26 |
| 发明（设计）人： | 李大青 | 申请（专利权）人： | 青净光能科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C02F1/30 | 分类号： | C02F1/30;A61L9/18;C07K1/14;A61L2/10 |
| 代理公司： | 深圳德高智行知识产权代理事务所(普通合伙) 44696 | 代理人： | 吳襄帥 |
| 地址： | 中国台湾桃*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种双腔室流体处理系统，其包括有：一第一腔室与一第二腔室相连通，一层流装置设置于所述第一腔室与所述第二腔室之间，所述第一腔室设置有一第一光源模块以及一入口提供一流体输入；所述第二腔室设置有一第二光源模块以及一出口提供所述流体输出；所述层流装置具有多个透孔，所述多个透孔具有一直线内壁与所述第二腔室之腔壁平行。 | ||
| 搜索关键词： | 双腔室 流体 处理 系统 | ||
【主权项】：
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