[实用新型]一种光刻机及其可精准对位曝光机构有效
| 申请号： | 202121533182.0 | 申请日： | 2021-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN215067719U | 公开（公告）日： | 2021-12-07 |
| 发明（设计）人： | 霍锦充 | 申请（专利权）人： | 东莞王氏港建机械有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京喆翙知识产权代理有限公司 11616 | 代理人： | 倪建娣 |
| 地址： | 523000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及光刻机技术领域，更具体地说，它涉及一种光刻机及其可精准对位曝光机构，其中，曝光机构包括上模板、下模板、晶圆支撑板、掩膜安装板、调正驱动机构以及调平驱动机构；掩膜安装板可浮动地安装在上模板上，使掩膜安装板的各边角之间可相对升降；晶圆支撑板可活动地安装在下模板的支撑面上，使晶圆支撑板的各边角均可沿平行于支撑面的方向相对运动；调平驱动机构用于沿垂直于支撑面的方向对掩膜安装板施加力，使掩膜安装板与晶圆平行；调正驱动机构用于沿平行于支撑面的方向对晶圆支撑板施加力，以对晶圆支撑板的位置进行调节。根据本实用新型的方案，其可以对晶圆精确对位，使晶圆与掩模板平行、且使晶圆与预设位置对正。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 及其 精准 对位 曝光 机构 | ||
【主权项】：
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