[实用新型]一种磁控溅射箱体的密封装置有效

专利信息
申请号: 202121672884.7 申请日: 2021-07-22
公开(公告)号: CN215163083U 公开(公告)日: 2021-12-14
发明(设计)人: 冷长志;李启炎 申请(专利权)人: 杭州云度新材料科技有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/56
代理公司: 杭州永绎专利代理事务所(普通合伙) 33317 代理人: 胡英超
地址: 311400 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开了一种磁控溅射箱体的密封装置,包括箱体以及一端通过铰链活动安装在箱体上的箱门;其特征是还包括设置在箱门和箱体上的多级密封结构以及安装在箱门和箱体上用于锁紧箱门的若干锁紧机构。该实用新型通过多级密封结构的设置,大大增强箱门与箱体连接处的密封性,保证密封性而提高磁控溅射效果,从而提高产品镀膜质量;通过若干锁紧机构的设置,一是用于锁紧箱门,二是通过锁紧箱门驱使箱门和箱体上的多级密封结构接触更加紧密,密封效果更佳。
搜索关键词: 一种 磁控溅射 箱体 密封 装置
【主权项】:
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