[实用新型]一种功率MOS器件低热阻封装结构有效

专利信息
申请号: 202121745215.8 申请日: 2021-07-29
公开(公告)号: CN215342555U 公开(公告)日: 2021-12-28
发明(设计)人: 缪志平 申请(专利权)人: 盛廷微电子江苏有限公司
主分类号: H01L23/04 分类号: H01L23/04;H01L23/06;H01L23/367;H01L29/78
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 214200 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种功率MOS器件低热阻封装结构,包括装置主体,半导体硅衬底的底部安装有绝缘底座,且绝缘底座的内部均匀分布有散热孔,散热孔有利于散发MOS器件工作产生的热量,封装外壳为陶瓷封装外壳,且与装置主体紧密粘接,当在使用MOS器件时,装置主体采用了绝缘底座上安装有散热孔,使得MOS器件工作时产生的热量更加容易散发,解决了半导体硅衬底热阻过大的问题,且封装外壳使得MOS器件与外部环境除电气连接之外密封隔离,且增大了电流容量,极大的节约了电流损耗。
搜索关键词: 一种 功率 mos 器件 低热 封装 结构
【主权项】:
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