[实用新型]一种高光釉面石晶墙/地砖生产系统有效

专利信息
申请号: 202121781522.1 申请日: 2021-08-02
公开(公告)号: CN215473186U 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 徐介胜;吴晴 申请(专利权)人: 江苏波登新材料科技有限公司
主分类号: B29C65/52 分类号: B29C65/52;B29L7/00;B29L9/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 226600 江苏省南通*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开一种高光釉面石晶墙/地砖生产系统,不使用传统的PVC耐磨层,而是通过压延和表面淋涂的方式,使色彩和质感更加饱满,光泽度达到90度以上,挤塑线、UV线和开槽线按从前往后依次设置,挤塑线的高温挤塑T型模具的出料口与五辊压延机的进料口连接,五辊压延机的出料口与传输轨道的进料口连通,传输轨道的出料口与UV线的第一辊涂的进料口连接,第一辊涂的出料口与第二辊涂的进料口连接,第二辊涂的出料口与淋涂的进料口连接,淋涂的出料口与膜压机的进料口连接,膜压机的出料口与开槽线的长边开槽进料口连接,长边开槽的出料口与短边开槽的进料口连接。
搜索关键词: 一种 釉面 石晶墙 地砖 生产 系统
【主权项】:
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