[实用新型]阴离子表面活性剂盐型产品的生产装置和紫外照射器件有效

专利信息
申请号: 202121836068.5 申请日: 2021-08-08
公开(公告)号: CN215428974U 公开(公告)日: 2022-01-07
发明(设计)人: 王宝;罗芳;丁正强 申请(专利权)人: 上海奥威日化有限公司
主分类号: B01J19/12 分类号: B01J19/12;B01J19/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201512 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型涉及阴离子表面活性剂盐型产品的生产装置和紫外照射器件。阴离子表面活性剂盐型产品的生产装置的技术方案是:阴离子表面活性剂盐型产品的生产装置,包括反应釜(3)和从反应釜取出物料并输回反应釜的物料循环通道(5),物料循环通道中设置紫外照射器件(10)。反应釜可选设置搅拌装置(1)。外照射器件的技术方案是:紫外照射器件,包括物流通路(105)、形成所述物流通路的通路壳体(104),和紫外光源(103);通路壳体(104)的部分区域或全部区域为紫外线可透过区域,紫外光源(103)位于物流通路(105)外部,并临近于设置紫外线可透过区域;紫外照射器件(10)包括紫外线反射壁(102)。
搜索关键词: 阴离子 表面活性剂 产品 生产 装置 紫外 照射 器件
【主权项】:
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