[实用新型]一种耐磨性优越的湿法增透减反膜有效

专利信息
申请号: 202121888122.0 申请日: 2021-08-12
公开(公告)号: CN215494199U 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 高洁 申请(专利权)人: 高洁
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11;G02B1/14
代理公司: 北京喆翙知识产权代理有限公司 11616 代理人: 马婷
地址: 511400 广东省广州*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型提供一种耐磨性优越的湿法增透减反膜,涉及一种采用多层复合结构,提高增透减反膜表面耐磨性的膜体结构,属于光学防护膜领域。提供的一种通过在主体膜表面悬空设置防护膜,防护膜和主体膜之间形成中空填充腔,提高耐磨性的增透减反膜,包括底胶膜、主体膜、防护膜,底胶膜置于主体膜底部,防护膜置于主体膜顶部,主体膜和防护膜之间设置有多个支撑条,支撑条和主体膜一体成型,能够在主体膜上方形成悬空防护,提高主体膜的耐磨性。
搜索关键词: 一种 耐磨性 优越 湿法 增透减反膜
【主权项】:
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