[实用新型]一种具有混合栅电极结构的氮化镓常关型器件有效

专利信息
申请号: 202121958168.5 申请日: 2021-08-19
公开(公告)号: CN216671641U 公开(公告)日: 2022-06-03
发明(设计)人: 蒲涛飞;李柳暗;敖金平 申请(专利权)人: 宁波铼微半导体有限公司
主分类号: H01L29/778 分类号: H01L29/778;H01L29/423;H01L29/40;H01L29/45;H01L21/335
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 李园园
地址: 315800 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 实用新型公开了一种具有混合栅电极结构的氮化镓常关型器件,该器件包括:依次设置于衬底层上的缓冲层、GaN沟道层、AlGaN层、P‑GaN帽层;设置于AlGaN层上的两个欧姆电极;设置于P‑GaN帽层上及P‑GaN帽层两侧的栅介质层;设置于欧姆电极与P‑GaN帽层两侧的栅介质层之间AlGaN层上的钝化层;设置于栅介质层上和填充栅介质层凹槽内的栅电极;其中,P‑GaN帽层上栅介质层上的栅电极和填充于若干凹槽内的栅电极构成MIS栅电极结构和肖特基栅电极结构的混合栅结构;P‑GaN帽层两侧的栅介质层上的栅电极和P‑GaN帽层两侧的栅介质层构成场板结构。本实用新型提高了器件栅电极的阈值电压,提高了器件的开关频率,同时提升了器件栅电极的长期可靠性。
搜索关键词: 一种 具有 混合 电极 结构 氮化 镓常关型 器件
【主权项】:
暂无信息
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