[实用新型]一种激光刻章机污染处理装置

摘要

本实用新型公开了一种激光刻章机污染处理装置，包括箱体，所述箱体一侧设有储液箱，所述储液箱内底部设有液位报警器，所述箱体内部分成上部空间与下部空间，所述下部空间设有颗粒物过滤器，所述上部空间从下至上依次分成底仓、中仓、顶仓，所述上部空间内设有气液反应器，所述气液反应器贯穿所述底仓、所述中仓以及所述顶仓三者设置，所述中仓上设有水泵与风机，所述中仓一侧设有回风口，所述底仓内且位于所述回风口的下方设有辅助过滤箱，所述顶仓顶部设有贯穿所述箱体顶部的出风口。有益效果：气液反应比气固反应高效，可以针对不同的污染物开发不同的反应药品，没有二次污染。