[实用新型]自带冲水的CMP抛光装置抛光头及CMP抛光装置

摘要

本实用新型公开了一种自带冲水的CMP抛光装置抛光头，包括连接管、连接盘、负压管、陶瓷盘和喷淋装置；连接管连接在连接盘顶部；连接盘底部非中心位置设有两个以上的负压出口，负压管位于连接管内，负压管底部分支为两路上的负压分路、分别通向各负压出口；陶瓷盘为环状结构，陶瓷盘通过负压吸附在连接盘底部；喷淋装置包括输水管和第一升降机构，输水管位于连接管内侧，输水管的底部设有喷嘴，喷嘴穿出连接盘、但不超出陶瓷盘底部，第一升降机构与输水管连接、并驱动输水管相对连接管上下移动。上述装置实现了衬底在抛光的机械作用结束时，化学反应也能瞬间结束，最大限度的保留了衬底在抛光过程中形成的高质量表面状态；同时降低了后期处理的难度。