[实用新型]一种使用新型结构靶材的电弧源

摘要

本实用新型公开了一种使用新型结构靶材的电弧源，涉及真空电弧离子镀膜技术装备领域。该阴极电弧源包括片状靶材、保护罩、旋转轴、驱动电机、水冷装置、磁场装置、阴极座、屏蔽板，所述旋转轴分别放置于所述保护罩内，所述片状靶材一端连接并卷套在所述旋转轴外部，另一端通过所述保护罩上的绝缘缝连接另一所述空心轴，所述驱动电机驱动所述旋转轴转动，所述水冷装置设置在片状靶材弧斑刻蚀区域下方并安装在所述阴极座上，所述磁场装置设置在所述水冷装置下方并安装在阴极座上。本实用新型主要针对靶材材料具有良好延展性的电弧离子镀膜技术，可通过移动靶材来改变弧斑刻蚀位置，解决因重复刻蚀造成的靶材温度升高问题，有效减少大颗粒的喷发。