[实用新型]一种喷釉设备

摘要

本申请涉及一种喷釉设备，其包括机架，还包括与所述机架连接的喷釉室，所述喷釉室形成有内腔，所述喷釉室两侧设有通料室，所述通料室与所述喷釉室连通且两侧开设有开口，所述通料室的开口高度低于所述喷釉室的内腔顶壁高度，所述机架上设置有穿过所述喷釉室的传送带，所述传送带依次穿过所述通料室、所述喷釉室与另一个所述通料室，所述喷釉室内设有喷釉头，所述喷釉头连接有供釉机构，所述喷釉头朝向所述传送带上的瓦片。本申请具以下效果：喷釉室可控制部分釉料喷出瓦片上釉的范围，能够尽可能的防止釉料逸散到外界，可尽量避免对瓦片上釉以外的环境造成污染。