[实用新型]一种密封结构及蚀刻装置有效
| 申请号： | 202122358194.0 | 申请日： | 2021-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN217328438U | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 张川 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | F16J15/10 | 分类号： | F16J15/10;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京恒博知识产权代理有限公司 11528 | 代理人： | 张琦 |
| 地址： | 430205 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种密封结构及蚀刻装置，密封结构包括第一密封圈以及第二密封圈，第二密封圈套接于第一密封圈的外侧，且与第一密封圈抵接。相比于单层密封结构，本申请实施例中通过双层密封圈进行密封，可以提升密封结构的密封性能，从而提高气体管路与其他物体的连接节点处的密封效果，防止气体管路内的气体泄漏以及外界气体进入气体管路，并且第二密封圈与第一密封圈抵接设置，使得第二密封圈与第一密封圈紧密连接，从而使得第二密封圈与第一密封圈之间不存在间隙，可以防止气体管路内的气体从第一密封圈渗透至第二密封圈与第一密封圈之间的间隙中导致气体管路内的气压发生变化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 密封 结构 蚀刻 装置 | ||
【主权项】：
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