[实用新型]整合肖特基二极管的沟槽MOS功率器件有效

专利信息
申请号: 202122801221.7 申请日: 2021-11-16
公开(公告)号: CN216311779U 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: 陈宏;张子敏;王宇澄;虞国新 申请(专利权)人: 无锡先瞳半导体科技有限公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L29/423;H01L29/78;H01L29/872
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 涂三民;曹祖良
地址: 214072 江苏省无锡*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及一种整合肖特基二极管的沟槽MOS功率器件,它包括N‑型硅衬底、栅极氧化层、屏蔽栅多晶硅、栅极导电多晶硅、P‑型体区、N+型源区、第一正面金属、掩蔽层、势垒合金、P‑型柱、第二正面金属与背面金属。本实用新型将高功效沟槽MOS与肖特基二极管集成并联在一个元胞里,缩减电路的器件个数,同时也集成双器件的功能,有效保证开关的恢复效率,减少了并联体内寄生二极管的导通损耗,也整体降低器件的应用成本。
搜索关键词: 整合 肖特基 二极管 沟槽 mos 功率 器件
【主权项】:
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