[实用新型]一种双工位曝光机

摘要

本实用新型公开了一种双工位曝光机，包括设备主体，所述设备主体包括：操作架，所述操作架设置于外固定面上；曝光组件，所述曝光组件左右对称有两组，所述曝光组件设置于操作架内，所述曝光组件的输出端向上设置，通过设置设备主体，自下至上对应变片进行曝光，能够有效防止灯管在跟随电动滑台移动过程中，其外侧沾附的灰尘杂质等掉落至应变片上，有效提高对应变片的曝光效果，本实用新型通过设置除尘件，除尘件上的刮板滑动接触连接于操作架的顶端，在除尘件移动过程中，带动刮板将沾附在操作架上的灰尘杂质推开，防止透光板不够干净影响透光效果，对曝光效果起到进一步的保障效果。