[实用新型]半导体器件清洗工装有效

专利信息
申请号: 202123086479.X 申请日: 2021-12-08
公开(公告)号: CN216631857U 公开(公告)日: 2022-05-31
发明(设计)人: 汪良恩;杨华;田孝强 申请(专利权)人: 安徽安美半导体有限公司
主分类号: B08B3/12 分类号: B08B3/12;B08B13/00;H01L21/67
代理公司: 北京久诚知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11542 代理人: 金福
地址: 247100 安徽省池州市经*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型提供了一种半导体器件清洗工装,涉及超声清洗技术领域。清洗工装包括:清洗篮和清洗架;清洗篮包括:垫脚和端板;端板固定在垫脚两端的上方,端板的顶端开设有与垫脚对应的缺口;清洗篮叠放时,上方清洗篮的垫脚容纳在下方清洗篮的缺口内,提高叠放清洗篮的稳定性;端板开设有竖直延伸的销孔,叠放清洗篮的销孔通过销杆连接,进一步提高了叠放清洗篮的稳定性。本实用新型中,叠放的清洗篮放置在清洗架内;有效防止了清洗过程中清洗篮侧翻,规避了其内半导体器件撒出报废的风险,使得清洗架能够进行多层清洗篮叠放清洗,清洗效率显著提升。
搜索关键词: 半导体器件 清洗 工装
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