[实用新型]一种化学机械抛光垫有效
| 申请号： | 202123092169.9 | 申请日： | 2021-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN216759447U | 公开（公告）日： | 2022-06-17 |
| 发明（设计）人： | 袁黎光;肖亮锋;王杰;刘健;石鑫;杨小牛 | 申请（专利权）人： | 广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26;B24B37/22 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 李远星 |
| 地址： | 510700 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种化学机械抛光垫。本实用新型的化学机械抛光垫包括上抛光层和下抛光层；所述上抛光层采用包括粘贴的方式设置在所述下抛光层的表面上，摒弃了缓冲层，使得该化学机械抛光垫可以直接使用；所述上抛光层为棱柱阵列层，且相邻的棱柱之间形成具有沟槽。从而无需采用铣削的方式加工开槽，减少原材料的浪费，降低抛光垫的制作成本，同时避免了铣削加工导致的碎屑在沟槽中的残留，提高生产的晶圆的质量。而且，所述上抛光层的棱柱为多边形棱柱，能提高抛光液分布均匀性，有效延缓抛光流出时间，提高抛光垫利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
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