[实用新型]一种用于链式抛光的装置有效
申请号: | 202123279662.1 | 申请日: | 2021-12-24 |
公开(公告)号: | CN216389407U | 公开(公告)日: | 2022-04-26 |
发明(设计)人: | 华永云;杜雪峰;雷深皓;杨丽娥 | 申请(专利权)人: | 云南合义德新材料有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人: | 陈剑杰 |
地址: | 650216 云南省昆明市中国(云南)自由贸易试验区昆明*** | 国省代码: | 云南;53 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型设计了一种用于链式抛光的装置,包括抛光槽、传动模块、控温模块、液流循环模块和控制部,所述传动模块设置在抛光槽的槽口处,所述控温模块和液流循环模块设置在抛光槽的壁面内,所述控制部设置在抛光槽外侧,抛光槽的槽口处设置有上层辊轴安装槽和下层辊轴安装槽,传动模块安装在上层辊轴安装槽和下层辊轴安装槽内。本实用新型能够调整辊轮之间的间距,提高抛光过程的可控性,保证产品质量。每根传动辊和带液辊上均设置有独立的驱动电机,能够进行速度调节保证抛光过程的精确程度。具有液流循环功能,避免上下层液体出现温差、上下层液体出现浓度差引起的蚀刻液不均匀的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 链式 抛光 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于云南合义德新材料有限公司,未经云南合义德新材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202123279662.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:集成化相机装置
- 下一篇:一种计算机视觉检测辅助装置
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的